Марченко І.Г. Процеси низькотемпературного структуроутворення у приповерхневих шарах твердих тіл під впливом атомно-іонних потоків. -Рукопис. Дисертація на здобуття наукового ступеня доктора фізико-математичних наук за спеціальністю 01.04.07 - фізика твердого тіла.- Інститут електрофізики і радіаційних технологій НАН України, м. Харків, Україна, 2007. Дисертація присвячена встановленню закономірностей фізичних процесів низькотемпературного формування структури приповерхніх шарів твердих тіл під впливом атомно-іонних потоків. Методами комп'ютерного моделювання досліджені закономірності формування приповерхніх шарів, отриманих осадженням з атомних та іонних потоків. Встановлено, що при низькотемпературному осадженні наноструктура тонких шарів металів визначається процесами виникнення і розвитку морфологічної нестійкості на поверхні плівки у процесі її росту. Вивчено вплив низькоенергетичного опромінення власними іонами на морфологію поверхні й об'ємну мікроструктуру плівок міді і ніобію. Встановлено, що зміна величини і знака мікронапруг у зростаючих плівках під опроміненням обумовлена утворенням кластерів міжвузельних атомів, що виникають у результаті розвитку каскадів атом-атомних зіткнень. Методами комп'ютерного моделювання встановлено особливості процесів формування поверхневих шарів при імплантації металевих і газових іонів, а також при іонно-стимульованому осадженні. Встановлено, що існує область значень іонного струму та енергії іонної обробки, для яких процес іонного азотування проводиться найбільш ефективно. Ключові слова: структура поверхні, атомно-іонні потоки, комп'ютерне моделювання.