Електронний каталог науково-технічної бібліотеки ІФНТУНГ

621.315.59
Б87          Братусь, В. Я.
    Природа та структура парамагнітних дефектів у кристалах GaAs, SiC і кремнієвих матеріалах з нанострукурами [Текст] : автореф. дис. на здобуття наук. ступеня д-ра фіз.-мат. наук : спец. 01.04.10 "Фізика напівпровідників і діелектриків" / Братусь Віктор Якович ; НАН України, Ін-т фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова. – К., 2006. – 28 с. – 24-26.

   Братусь В.Я. Природа та структура парамагнітних дефектів у кристалах GaAs, SiC і кремнієвих матеріалах з наноструктурами. - Рукопис. Дисертація на здобуття наукового ступеня доктора фізико-математичних наук за спеціальністю 01.04.10 - фізика напівпровідників і діелектриків. -Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України, Київ, 2006. Дисертацію присвячено вирішенню проблеми з'ясування природи та структури домішкових і власних парамагнітних дефектів у кристалах GaAs, SiC і кремнієвих матеріалах, в яких утворюються нанокристаліти. З'ясовано, що резонансне спінове поглинання центрів Мл у нейтральному стані має електродипольну природу. Визначено симетрію та параметри надтонкої взаємодії для мілкої домішки бору у 3С-SiC. Розглянуто модель центра BSi, у рамках якої пояснено параметри спектру ЕПР та його температурні зміни. Визначено параметри спін-гамільтоніана трьох основних дефектів Куі, Ку2 і КуЗ, утворених опроміненням електронами кристалів 6H-SiC р-типу. Порівняння експериментальних та розрахованих із перших принципів параметрів надтонкої взаємодії дозволило ідентифікувати ці дефекти як позитивно заряджену вакансію вуглецю у трьох нееквівалентних положеннях ґратки 6H-SiC, а центри Т5 та ЕІЗ відповідно як позитивний та нейтральний зарядові стани розщепленого у напрямку <100> вуглецевого міжвузля. Обґрунтовано модель дефекту Рs на інтерфейсі Si/SiO2. Спостережено та ідентифіковано парамагнітні дефекти у широкому колі кремнієвих матеріалів, отриманих різними способами розпилення та імплантацією іонів у структури Si/SiO2. Ключові слова: дефект, GaAs, SiC, SiO2, SiOx, наноструктура, електронна структура, ЕПР, ПЕЯР, імплантація, нанокристаліт.


УДК 621.315.59(043)+537.6(043)

            



Примірники
Місце збереження Кількість В наявностi
ЧЗНП - Зал. наук. та період. вид 1 1


Теми документа


Статистика використання: Видач: 0 Завантажень: 0





Український Фондовий Дім Інформаційно-пошукова система
'УФД/Бібліотека'